真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。Parylene（中文称：派瑞林、聚对二甲苯，或派拉伦）是对一系列特别的高聚物的一个通常的称呼。这个家庭中基本的成员称作Parylene，即聚对二甲苯，是一种完全线性的高度结晶结构的材料。化学气相沉积技术
薄膜外表呈现褐色条纹 原因： ①真空度低 解
化学气相沉积技术
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。Parylene（中文称：派瑞林、聚对二甲苯，或派拉伦）是对一系列特别的高聚物的一个通常的称呼。这个家庭中基本的成员称作Parylene，即聚对二甲苯，是一种完全线性的高度结晶结构的材料。化学气相沉积技术
薄膜外表呈现褐色条纹 原因： ①真空度低 解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空系统;下降环境湿度。 ②薄膜开释气体。解决方法：薄膜预单调;延伸抽真空时刻。 ③喷铝过多。解决方法：前进车速;下降蒸发舟电流;下降送铝速度。 ④蒸发舟内有杂质。解决方法：清洗蒸发舟及热屏蔽板。 ⑤蒸发舟老化。解决方法：替换蒸发舟。
真空镀膜加工中频磁控溅射
目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。
无论平衡还是不平衡，如果磁铁是静止的，其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率，可以采用旋转磁场。然而，旋转磁场需要一个旋转机构，并且应降低等待速率。旋转磁场主要用于大型或有价值的目标。如半导体薄膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，通常使用磁场静态目标源。
用磁控靶源溅射金属和合金容易，点火和溅射方便。这是因为目标、等离子体和飞溅零件的真空腔可以形成一个电路。但是，如果溅镀陶瓷等绝缘体，电路就会断开。因此，人们使用高频电源，并在电路中添加一个强大的电容器。这样，目标成为绝缘电路中的电容器。
然而，高频冲击控制无线电电源价钱昂贵，源发射率很小，接地技术非常复杂，难以大规模采用。为了解决这一问题，发明了磁控反应弯头。使用金属棒，加入气和氮气或氧气等反应气体。当金属靶击中零件时，由于转换，它将与反应气体结合形成氮化物或氧化物。
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