微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比, 这种膜的空隙率大大降低,从而使耐蚀性和性有了较大提高。目前,微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。微弧氧化由于具有工艺简单、占地面积小、、效果强、适合规模生产,又对环境污染小,因此目前在诸多行业都处于蓬勃发展的时期。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2
手机壳微弧氧化技术
微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比, 这种膜的空隙率大大降低,从而使耐蚀性和性有了较大提高。目前,微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。微弧氧化由于具有工艺简单、占地面积小、、效果强、适合规模生产,又对环境污染小,因此目前在诸多行业都处于蓬勃发展的时期。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成,总膜厚可达100 Lm以上, 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。
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微弧氧化(Micro-arc Oxidation,MAO)处理将铝、镁合金制品做阳极,不锈钢做阴极,置于脉冲电场环境的电解液中,使制品表面产生微弧放电(图1)而生成一层与基体以冶金方式结合的氧化铝或氧化镁陶瓷层。还可用于常规阳极氧化不能处理的特殊铝基合金材料的表面强化处理。这是一种环保型镁合金表面处理工艺并解决表面防腐难题。
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微弧氧化膜层生长发育时,先在基体表面产生放热反应,转化成一层阳极处理膜。当扩大反映电压时,膜层厚度会进一步增加,再次增加电压,厚度会随着增加。可是当反映电压增加到一定水平时,膜层会因为不可以承担该工作电压产生充放电且热击穿,造成低温等离子充放电。微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所)(北京市辐射中心)1992年起开发的科研课题,先后得到教委、九五863高技术研究发展计划、自然科学基jin的大力支持。反映的高溫将使膜层产生熔化,基体原素因为处于富氧自然环境中,将产生化合物。另外因为是在锂电池电解液中,熔化物将一瞬间冷凝器,在基体表面转化成一层瓷器。陶瓷膜的转化成,将造成工作电压进一步上升,膜层再度被热击穿,膜层厚度进一步增加。循环反复,膜层足以生长发育。
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