可通过测量霍尔元件的电压变化得到待测微压差ΔP。图1霍尔式磁性液体微压差传感器结构示意图Fig．传感器改进部分的模型如图2所示。将霍尔元件固定在环形支架上，通过滑动支架可以改变霍尔元件测量位置，增加了传感器测量范围。环形支架的凹槽处放置霍尔元件，两个环形支架可以在滑轨上滑动，通过调节两个环形支架间距，可以改变传感器的测量量程。
以上特征峰表明CD-CHOL与PAA-Azo在气液
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可通过测量霍尔元件的电压变化得到待测微压差ΔP。图1霍尔式磁性液体微压差传感器结构示意图Fig．传感器改进部分的模型如图2所示。将霍尔元件固定在环形支架上，通过滑动支架可以改变霍尔元件测量位置，增加了传感器测量范围。环形支架的凹槽处放置霍尔元件，两个环形支架可以在滑轨上滑动，通过调节两个环形支架间距，可以改变传感器的测量量程。
以上特征峰表明CD-CHOL与PAA-Azo在气液界面上通过主客体作用形成复合组装膜。图4CD-CHOL多层LB膜的红外光谱Fig．进而，对CD-CHOL多层LB膜进行XPS表征，如图5所示。图5CD-CHOL多层LB膜的XPS数据以及C1s分峰5(a)是CD-CHOL分别在纯水亚相、PAA-Azo亚相的多层膜的XPS数据，特征峰C1s、O1s、N1s的相对强度均有所不同。
综合来说，100～150目的样品熔制效果好于未筛分的及筛分的其他粒度。图1不同粒度硅砂配合料制备的高应变点玻璃显微图像从图3中可以明显的看出未筛分硅砂熔制的玻璃样品的均匀性差，采用筛分过的3个粒度硅砂熔制的玻璃样品均匀性均好于未筛分的;而100～150目的样品熔制的玻璃样品均匀性又优于60～100目、150～230目的样品。此现象产生的原因为:玻璃配合料中硅砂的粒度越小，容易在配合料高应变点玻璃熔制、澄清效果的影响143硅砂粒度为150～230目时，由于超细粉的粒径非常小，表面积就越大，与其它反应物的接触的面积就越大
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