在真空镀膜里，工艺始终是关键的因素。成熟的工艺就是能够根据不同的产品使用合适的镀膜方案，当然，有成熟的工艺还不够，还要在控制好成本的前提下顺利实施才行。在电镀的时候，必须清除氧化皮、锈及氧化物等变质层。虽然加工层，镀层能够与之牢固地结合，因而无需用浸蚀法加以清除，一般只需进行酸洗处理。电镀时，即使是微量的污物层残留于表面，也会造成镀层结合不牢及剥落等缺陷，所以污物层务必
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在真空镀膜里，工艺始终是关键的因素。成熟的工艺就是能够根据不同的产品使用合适的镀膜方案，当然，有成熟的工艺还不够，还要在控制好成本的前提下顺利实施才行。在电镀的时候，必须清除氧化皮、锈及氧化物等变质层。虽然加工层，镀层能够与之牢固地结合，因而无需用浸蚀法加以清除，一般只需进行酸洗处理。电镀时，即使是微量的污物层残留于表面，也会造成镀层结合不牢及剥落等缺陷，所以污物层务必除净，这一工序称为除油。因为钛和钛合金是无毒无污染的，即便是与人体肌肤接触的话也是不会引起过敏等不良反应的。所以像手链或者手表之类的产品是可以防止人的。钛或则钛的许多化合物，具有抗酸抗碱的功能，所以不锈钢表面镀钛的话可以起到和防腐蚀的作用。
PVD灯具的铝涂层真空镀膜
PVD灯具的铝涂层真空镀膜。因为是金属薄膜，DC磁控溅射当然好。速度快。中频适合镀复合膜。如果选择离子源，霍尔离子源就足够了。但是要注意灯具的大小。一般霍尔离子源为圆形，离子源覆盖面积有限。你必须用离子束覆盖所有工件。如果普通霍尔离子源太小，可以考虑阳极层离子源。离子源难以发光的一个原因是磁场太弱，无法激发等离子体。虽然离子源种类很多，但基本上是先产生等离子体，然后从等离子体中提取气体离子，加速成离子束，以便后期注入电子，根据需要中和离子流。
镀装饰膜,膜厚较大,要求与机体结合牢固,但均匀性要求不高
如果镀装饰膜，膜厚较大，要求与机体结合牢固，但均匀性要求不高。霍尔离子源可用。它具有高离子电流和高离子能级。如果涂有光学薄膜，主要要求离子电流水平集中，离子电流均匀性好。所以使用考夫曼或射频离子源，有条件可以使用ECR(电子回旋)或ICP(电感耦合)离子源。另外还要考虑耗材，比如钨丝的霍尔源，在反应气体中十个小时就会烧坏。而离子源，如ICP离子源，可以在反应气体中连续工作数百小时。
化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)
与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)简称为CVD技术。行通常所说的“IP”(ionplatin离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。
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