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真空镀膜之多弧离子镀 :
部分离子对阴极的轰击又使阴极斑点局部蒸发并在空间迅速离化,使这些阴极弧斑点变成微小蒸发源,这些微小蒸发源在磁场和屏蔽绝缘的作用下束缚在阴极靶面做无规则运动,从而形成均匀的蒸
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真空镀膜之多弧离子镀 :
部分离子对阴极的轰击又使阴极斑点局部蒸发并在空间迅速离化,使这些阴极弧斑点变成微小蒸发源,这些微小蒸发源在磁场和屏蔽绝缘的作用下束缚在阴极靶面做无规则运动,从而形成均匀的蒸发源,喷发出电子、离子、熔融的金属材料和原子。溅射过程是建立在气体放电基础上的,放电从低压下开始的,气体离子与靶材相互作用,离子不断的撞击靶表面,靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片(玻璃)上沉积下来,凝结成一层薄膜。大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,是怕工件太脏时一开始就强轰击,可能产生强烈的打火而损伤工件。
烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。
离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
镀膜工艺
镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法,镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。离子镀密度大,无气孔但膜层缺陷较多,附着性很好,内应力视工艺条件而定,绕射性较好。下面说一下阴极真空磁控溅射法,通过磁控溅射,在浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。通过镀膜可以改变基片的某些属性,如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。
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