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光线通过掩模板投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）缩小了掩模板上设计的电路图案，并将光刻胶聚焦在晶圆上。正如前面提到的，当光线照射到光刻胶上时，会发生化学变化，并将掩模板上的图案印在光刻胶涂层上。光刻在芯片制造过程中非常重要，因为它决定了芯片上的晶体管可以有多小。在这个阶段，晶圆将被放入光刻机中，并暴露在
精密滑台施工
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光线通过掩模板投射到晶圆上，光刻机的光学系统（DUV系统的透镜）缩小了掩模板上设计的电路图案，并将光刻胶聚焦在晶圆上。正如前面提到的，当光线照射到光刻胶上时，会发生化学变化，并将掩模板上的图案印在光刻胶涂层上。光刻在芯片制造过程中非常重要，因为它决定了芯片上的晶体管可以有多小。在这个阶段，晶圆将被放入光刻机中，并暴露在深紫外线（DUV）下。大多数时候，它们比沙粒小几千倍。
下一步是去除退化的光刻胶，以显示预期的图案。在“蚀刻”过程中，晶圆被烘烤和显示，一些光刻胶被洗掉，从而显示开放通道的3D图案。蚀刻过程必须准确一致地形成导电特性，而不影响芯片结构的整体完整性和稳定性。的蚀刻技术使芯片制造商能够使用两倍倍和基于间隔的图案来创造现代芯片设计的小尺寸。芯片有几十层，因此必须仔细控制蚀刻，以免损坏多层芯片结构的底层。如果蚀刻的目的是在结构中创建一个空腔，则需要确保空腔的深度完全正确。一些高达175层的芯片设计，如3DNAND，特别重要和困难。和光刻胶一样，蚀刻也分为干和湿。干蚀刻使用气体来确定晶圆上的暴露图案。湿蚀刻通过化学方法清洗晶圆。
进入21世纪以来,社会经济迅 猛发展,电力电器行业作为基础建设的重要项目,与百姓的日常生活息息相关,其受到的社会关注度自然较高.电力电气自动化元件作为系统运行的主要设备, 是保证电力运行稳定性的关键.目前,社会科学技术正以飞快的速度前进,电力事业也朝着信息化,智能化和自动化方向发展.为了有效缓解以往电力运行过程在存 在的弊端,我国电力部门一定要对其中的自动化元件进行分析,明确其技术特征,将各部分元件的功效发挥到化,从而保证元件的使用,提高电力电气 自动化水平.
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