金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd镀膜原理与您分享真空镀应用非常广泛，主要领域如下所述：
（1）首饰行业
（2）钟表行业
（3）五金行业，如五金配件，衣服箱包配件等。
（4）通信产品行业：如手机、电话机等。
（5）数码产品、IT行业：如笔记本电脑、MP5、GPS、
pvd镀膜原理
金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd镀膜原理与您分享真空镀应用非常广泛，主要领域如下所述：
（1）首饰行业
（2）钟表行业
（3）五金行业，如五金配件，衣服箱包配件等。
（4）通信产品行业：如手机、电话机等。
（5）数码产品、IT行业：如笔记本电脑、MP5、GPS、数码相机等。
（6）玩具行业：尤其是对环保有严格要求的玩具。
（7）灯具行业应用很多。
（8）化妆品行业：如化妆品盖等。
（9）其他行业。
以上就是真空镀的应用场所，真空镀加工提供各种五金表面的中PVD镀膜加工，包括各种装饰膜：氮化钛仿金、炉内14K金、炉内18K金、炉内玫瑰金、IPS、IP、IP黑、IP咖啡色、IP铬色、还有双色电镀，三色电镀等。
真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
(2)轰击清洗
真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
(3)手套箱
①沉积锆底层
真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。
②镀ZrN膜
真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。
pvd镀膜原理与您分享在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
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