曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。曝光不足，抗蚀膜聚合不够，显影时胶膜溶胀、变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶；曝光过度，将产生显影困难，胶膜发脆，余胶等问题。确定佳曝光时间的方法是使用云斯顿17级光密度表或斯托夫21级密度表，曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。显影 曝光后的干膜有些
喷砂曝光显影工艺
曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。曝光不足，抗蚀膜聚合不够，显影时胶膜溶胀、变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶；曝光过度，将产生显影困难，胶膜发脆，余胶等问题。确定佳曝光时间的方法是使用云斯顿17级光密度表或斯托夫21级密度表，曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。显影 曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。 喷砂曝光显影工艺
蚀刻曝光和显影是什么意思，
1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路.
2、曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.
3、显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.
曝光显影在3D玻璃盖板印刷装饰工艺中的应用5G时代来临，玻璃材质等非电磁材料将迎来重大机遇。 柔性显示屏、可弯曲穿戴设备等对玻璃盖板新的要求，随着苹果、三星、华为、小米等业界巨头新产品的应用，喷砂曝光显影工艺
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺；蚀刻液的密度：实际上，该原理与蚀刻速率的原理相同。这并不意味着蚀刻溶液的密度越低，侧面蚀刻越小，但是密度越高，侧面蚀刻越小，因为致密蚀刻溶液不需要电路板。喷砂曝光显影工艺
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