显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉. 曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要，之前利成有编辑过“曝光显影在蚀刻加工中的作用”；曝光显影工艺工厂
曝光显影
曝光显影工艺工厂
显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉. 曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要，之前利成有编辑过“曝光显影在蚀刻加工中的作用”；曝光显影工艺工厂
曝光显影在蚀刻加工中的作用，在了解曝光显影在蚀刻加工中的作用前，我们要先了解一下什么是曝光显影。简单来说曝光显影是蚀刻加工中确定需要被腐蚀和不被腐蚀部分的工艺，显影的目的是通过显影将未曝光的地方冲走，经过曝光的地方固化，因此在菲林的制作上，需要非常准确和清晰。曝光成像与显影工艺技术的原理及特点无论是PCB多层线路板还是柔性线路板在制作线路图形时都要用到曝光成像与显影工艺技术。曝光显影工艺工厂
什么是曝光显影工艺？不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。曝光显影技术优势1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；
2、图形转印技术单层、多层套印精度高；
3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；
4、采用图形转印技术，良率较高；
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；在微影曝光工程中，首先要在硅圆片表面均匀地涂布感光性树脂光刻胶，涂布操作需要在涂胶机( Coating)中进行。
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