微弧氧化
微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能完全描述陶瓷层的形成。该组织形貌，非常有利于
微弧氧化电源效率
微弧氧化
微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能完全描述陶瓷层的形成。该组织形貌，非常有利于后续涂装，它能使有机涂层深入氧化膜的微孔中形成“抛锚效应”，大大提高了有机涂层的结合力。
微弧氧化的原理
微弧氧化或等离子体电解氧化表面陶瓷化技术，是指在普通阳极氧化的基础上，微弧氧化技术 利用弧光放电增强并ji活在阳极上发生的反应，从而在以铝、钛、镁等金属及其合金为材料的工件表面形成的强化陶瓷膜的方法，微弧氧化电源是通过用的微弧氧化电源在工件上施加电压，微弧氧化使工件表面的金属与电解质溶液相互作用，在工件表面形成微弧放电，在高温、电场等因素的作用下，金属表面形成陶瓷膜，达到工件表面强化的目的。微弧氧化技术为提高铝材料的表面性能，常用的方法有电镀，激光，阳极氧化等，其中微弧氧化技术是基于阳极氧化发展起来的一种的表面强化处理技术。
微弧氧化手电解质溶液及其组分的影响
微弧氧化电解液是获到合格膜层的技术关键。不同的电解液成分及氧化工艺参数，所得膜层的性质也不同。微弧氧化电解液多采用含有一定金属或非金属氧化物碱性盐溶液（如硅酸盐、磷酸盐、硼酸盐等），其在溶液中的存在形式较好是胶体状态。溶液的pH范围一般在9～13之间。根据膜层性质的需要，可添加一些有机或无机盐类作为辅助添加剂。同时也可用于建筑和民用工业中对装饰性和耐蚀要求高的铝基材的表面处理。在相同的微弧电解电压下，电解质浓度越大，成膜速度就越快，溶液温度上升越慢，反之，成膜速度较慢，溶液温度上升较快。微弧氧化生产线、微弧氧化电源
微弧氧化膜表面有很多微孔，多为盲孔。该组织形貌，非常有利于后续涂装，它能使有机涂层深入氧化膜的微孔中形成“抛锚效应”，大大提高了有机涂层的结合力。微弧氧化处理工艺简单，流程短。不需要对工件进行复杂的前处理，氧化过程无污染。电解液成分以食品添加剂为主，无毒无害且长效，生产过程中无需更换。微弧氧化设备、微弧氧化生产线、微弧氧化电源、铝合金微弧氧化、微弧喷涂。清洗废水可作为电解液补加水，处理过程基本无废水排放。
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