低压法
操作压力10MPa左右，温度400～450℃。由于操作压力和温度都比较低，故对设备要求低，容易管理，且催化剂的活性较高，这是此法的优点。但此法所用催化剂对毒物很敏感，易，使用寿命短，因此对原料气的精制纯度要求严格。又因操作压力低，氨的合成效率低，分离较困难，流程复杂。实际工业生产上此法已不采用了。合成氨工艺流程大概可以分为：原料气的制备；原料气的净化；气体压缩和氨
高纯液氨公司
低压法
操作压力10MPa左右，温度400～450℃。由于操作压力和温度都比较低，故对设备要求低，容易管理，且催化剂的活性较高，这是此法的优点。但此法所用催化剂对毒物很敏感，易，使用寿命短，因此对原料气的精制纯度要求严格。又因操作压力低，氨的合成效率低，分离较困难，流程复杂。实际工业生产上此法已不采用了。合成氨工艺流程大概可以分为：原料气的制备；原料气的净化；气体压缩和氨的合成四大部分。
其他法
工业化连续生产（在催化剂的作用下）的过程中有副产物氨气生成，将这些氨气压缩并降温冷却即成液态氨。在此过程中要进行排污，而带入杂质，因此得到的液氨纯度较低，用途受到限制。
2．皮肤和眼睛接触
低浓度的氨和潮湿的皮肤能迅速产生刺激作用。潮湿的皮肤或眼睛接触高浓度的氨气能引起严重的化学。
皮肤接触可引起严重疼痛和，并能发生咖啡样着色。被腐蚀部位呈胶状并发软，可发生深度组织破坏。
高浓度蒸气睛有强刺激性，可引起疼痛和，导致明显的并可能发生水肿、上皮组织破坏、混浊和虹膜发炎。轻度病例一般会缓解，严重病例可能会长期持续，并发生持续性水肿、、性混浊、眼睛膨出、白、眼睑和眼球粘连及失明等。多次或持续接触氨会导致。
2、20-60MPa中压高温生成法
这种方法对于液氨厂家来说是经济实惠的一种生产液氨的方法。加入一定量的催化剂，将氨气与氮气混合制成。这种方法由于降低了对于压力和温度的要求，对于生产过程中使用的机器的要求也不是很高，所以这种方法使用较多。
03、10MPa低压高温生成法
将氨气与氮气混合加入一定量的催化剂，控制压力在10MPa左右，温度为400-450摄氏度，这种对于机器的要求很低，很容易实现。
超纯氨的分子式是分子式：NH3，超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料，其反应为： 750—850℃ ：SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2 ，850—900℃ ：SiCl4+NH3---Si3N4+HCl+N2。虽然NH3在半导体制造用量不大，但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料，NH3的质量好坏直接决定发光二极管（LED）的亮度，它的价格高低左右着LED的经济性。
液氨主要用于生产、尿素和其他化学肥料，还可用作和的原料。
1.在工业中，用于制造火箭、的推进剂。
2.用作有机化工产品的氨化原料，还可用作冷冻剂。
NH3分子中的孤电子对倾向于和别的分子或离子形成配位键，生成各种形式的氨合物。如[Ag(NH3)2]+、[Cu(NH3)4]2+、BF3NH3等都是以NH3为配位的配合物。
3.液氨加热至800～850℃，在镍基催化剂作用下，将氨进行分解，可以得到含75%H2、25%N2的氢氮混合气体。用此法制得的气体是一种良好的保护气体
4.可以广泛地应用于半导体工业、冶金工业，以及需要保护气氛的其他工业和科学研究中。
5.用于各种化工辅料,冶炼等行业。
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