光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀，
光刻胶的物理属性：
粘度：测试方法有落球粘度计量器、Ostwalk-Cannon-Fenske方法、转动风向标法、粘度单位是厘泊（centipoise），另一种单位称为kinematic粘度，它是centistoke，由 粘度（厘泊）除以光刻胶密度而得到，默认温度为25度；
折射系数：index o
凹凸面曝光显影加工
光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀，
光刻胶的物理属性：
粘度：测试方法有落球粘度计量器、Ostwalk-Cannon-Fenske方法、转动风向标法、粘度单位是厘泊（centipoise），另一种单位称为kinematic粘度，它是centistoke，由 粘度（厘泊）除以光刻胶密度而得到，默认温度为25度；
折射系数：index of refraction，对于光刻胶其折射率和玻璃接近约为1.45；
储存与控制： 光热敏感度、粘度、清洁度……
凹凸面曝光显影加工
曝光了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被曝光的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行曝光后烘烤， 通过曝光后烘烤，消除曝光时的驻波效应，改善形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；凹凸面曝光显影加工
显影参数
在显影过程中有一些关键参数是必须被关注的，这些参数包括显影温度、显影时间、显影液量、当量浓度、排风及清洗等。
显影液量。晶圆片上显影液的量会影响到显影的质量。如显影液不足，可能会导致显影不尽；显影液过量，虽不会造成显影异常，但会造成浪费，因此，对于大规模生产来说，确定一个合适的显影量也是相当重要的。当量浓度。当量浓度是一个浓度单位，表示一升溶液中溶质的含量。对于显影液来说，当量浓度反映显影中其主导作用的OH-离子的浓度。凹凸面曝光显影加工
随着市场对3D镜片产品的需求，曝光显影工艺的要求越来越高。现有曝光显影工艺的方案为一涂一曝一显，具体的，曝光显影工艺依次为：清洗1→涂布1→预烤1→曝光1→显影1→固烤1→清洗2→涂布2→预烤2→曝光2→显影2→固烤2在于避免现有技术中的不足之处而提供一种曝光显影的方法，该曝光显影的方法可以解决镜面抛光不透发白等问题。凹凸面曝光显影加工
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