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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材
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佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。从镀膜的原理及特点看,真空蒸镀工件不带电,真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。
真空镀膜之多弧离子镀 :该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快, 入射粒子能量高,沉积膜的质量和附着性能好。可蒸发各种导电材料,金属或合金, 成份不受限制。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快,入射粒子能量高,沉积膜的质量和附着性能好。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,组织不致密。
磁控溅射:
原理:磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的Zn0:A1薄膜制备方法,通常分为直流溅射(DC)和射频溅射(IC)两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材,使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。
优点:以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐,磁控溅射法可获得高度c轴取向,表面平整度高,可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。
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