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万级无尘车间标准包括哪些内容1、尘粒zui大允许数(每立方米);2、大或等于0.5微米的粒子数不得超过350000个，大或等于5微米的粒子数不得超过2000个;3、微生物zui大允许数;4、浮游菌数不得超过100个每立方米;5、沉隆菌数不得超过3个每培养皿。6、配电：洁净室(区)的主要生产用房一般照度值宜≥300Lx;辅
无尘车间净化
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视频作者：安徽雨纯净化工程有限公司
万级无尘车间标准包括哪些内容1、尘粒zui大允许数(每立方米);2、大或等于0.5微米的粒子数不得超过350000个，大或等于5微米的粒子数不得超过2000个;3、微生物zui大允许数;4、浮游菌数不得超过100个每立方米;5、沉隆菌数不得超过3个每培养皿。6、配电：洁净室(区)的主要生产用房一般照度值宜≥300Lx;辅助工作室、人员净化和物料净化用室、气闸室、走廊等的照度值宜为200~300Lx。
早期的工业洁净室。早期主流思想就是必须大量使用消毒剂使其不含微生物。为便于消毒，墙体使用帖面，地面则用水磨石铺面，并带有排水槽和下水口，以便排出消毒剂。通风也很原始，每小时换气仅几次。在室内或在生产区与外部区域之间，还谈不上气流控制。人员穿的棉服衣着与哪个时代手术室使用的相似。那时即便有更衣区，也是非常简陋的。
半导体、集成电路生产的无尘车间要求：半导体材料提纯作为发展半导体器件的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求，为得到高纯度的硅材料，原料和中间媒介的高纯度和生产环境的洁净度成为影响产量的一个突出问题。集成电路芯片的成品率与芯片的缺陷密度有关，而芯片的缺陷密度与空气中粒子个数有关。因此，集成电路的高速发展，不仅对空气中控制粒子的尺寸有极高的要求，而且也需进一步控制粒子数；同时，对于超大规模集成电路生产环境的化学污染控制也有相关的要求。
净化车间设计要点：设计方案。要确定净化车间设计方案，必须先对房间的工作性质以及其中的气流条件进行认真的考虑。发尘量大的车间不宜采用地面送风形式，洁净度要求高的车间应尽可能远离其它车间。洁净度与换气次数。房间的洁净度取决于单位时间的换气次数，因此净化车间设计要点需慎密考虑房间的工作性质、以及生产工艺要求，再决定净化系统的技术参数。
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