洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。洁净管道(CleanTube)：将产品流程经过的自动生产线包围并净化处理，将洁净度
手术室净化工程
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。洁净管道(CleanTube)：将产品流程经过的自动生产线包围并净化处理，将洁净度等级提至100级以上。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。
净化工程是各个行业中被使用的一种技术，每一个环节都决定着是否能够达到洁净室的标准，相对来说是比较严谨的一项工程。三、中途：待底涂干化后，再将配好的中涂料用镘刀批刮在底涂上（根据地面基础情况可批刮多遍）四、面涂：待中涂固化后，铲去突起的颗粒等杂物，用滚筒把配好的面涂料滚涂在中涂上。净化工程是在一定空间范围内，将空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除，并将室内温度、洁净度、压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内的工程学科。
这不是一般的工程，是对环境空气、水、噪音、照明、菌落、静电、振动、温度、湿度等各项内容进行严格控制的，而不是普通的施工。
“那就是环保，不就是废气废水处理么，就是环保！
什么是工业洁净度净化工程
亦称为无尘室或清净室。是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪 音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间。
在净化工程中地面洁净处理是一个主要的内容，利用相关的材料以及技术，保证地面处于一个洁净的状态。对于材料的选择是非常谨慎的，要有一定的光滑度、平整度以及稳定性等等，能够有较长的使用寿命。水平层流式：水平式空气自过滤器单方向吹出，由对边墙壁之回风系统回风，随风向排出室外，一般在下流侧污染较严重。一般采用环氧树脂洁净地面。另外，还有给排水、空气过滤系统等其他净化设备。
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