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二手液质设备信赖推荐「多图」

(2)改善散射场:在离子萃取区适当增加一定相辅助射频电压 谱图质量更高、离子阱内的质谱碎片更丰富的原因来自于:(1)脉冲气的引入能更快地冷却离子(2)脉冲气和更高的RF电压,能在很短的离子时间内在离子阱内产生更丰富的离子碎片信息 以前的Qtrap3200和Qtrap 4000,离子阱的扫描速度为4,000 amu/sec,Qtrap 5500提高到20,00
二手液质设备







(2)改善散射场:在离子萃取区适当增加一定相辅助射频电压

谱图质量更高、离子阱内的质谱碎片更丰富的原因来自于:(1)脉冲气的引入能更快地冷却离子(2)脉冲气和更高的RF电压,能在很短的离子时间内在离子阱内产生更丰富的离子碎片信息

以前的Qtrap3200和Qtrap 4000,离子阱的扫描速度为4,000 amu/sec,Qtrap 5500提高到20,000 amu/sec。




更短的离子阱碎片扫描时间,以前是几个毫秒,现在可到50微秒

优点:更高离子容量的线性离子阱灵敏度提高(阱的扫描灵敏度提高了100倍)扫描速度提高5倍(20,000 amu/sec)离子填充时间缩短20倍分辨率提高2倍(优于12,000)质荷比精度提高3倍
的AcQuRate脉冲离子计数检测器:确保系统的重现性和性脉冲离子计数器是在某一时间内检测离子碰撞到电子倍增器时产生的离子脉冲



正解决了当前MRM速度的瓶颈。同时,具有更快的ESI正负极性切换速度(50毫秒)。

整体性能上,在MRM方面,一次实验可检测2500对MRM离子,一个时间段内可检测1000对MRM离子,同时不降低数据质量。

多残留检测的者:2003年100对MRM,2005年300对MRM,2008年>750对sMRM

综合起来,得到一个的高灵敏度和高速度。



流动相雾化后除去溶剂,分析物蒸发后再离子化,形成了“传送带式”接口(moving-belt interface)和离子束接口(particle-beam interface)等;(3)流动相雾化后形成的小液滴解溶剂化,气相离子化或者离子蒸发后再离子化,形成了热喷雾接口(thermo spray interface)、大气压化学离子化(atmospheric pressure chemical ionization,APCI)和电喷雾离子化(electrospray ionization, ESI)技术等。有关液相质谱的接口技术和LC-MS 技术的发展,Niessen 曾经进行了较为详细的综述。




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