化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。学抛光的优点是化学抛光设备简单,不需要什么特殊设备,只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。
化学抛光主要用不锈钢、铜及铜合金等。化学抛光对钢铁零件,尤其是低碳钢有较好的抛光效果,所以对于一些机械抛光时较为困难的钢铁零件,可采用化学抛光。
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化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。学抛光的优点是化学抛光设备简单,不需要什么特殊设备,只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。
化学抛光主要用不锈钢、铜及铜合金等。化学抛光对钢铁零件,尤其是低碳钢有较好的抛光效果,所以对于一些机械抛光时较为困难的钢铁零件,可采用化学抛光。
化学抛光工艺流程
化学(或电化学)除油→热水洗→流动水洗→除锈(10%硫酸)→流动水洗→化学抛光→流动水洗→中和→流动水洗→转入下道表面处理工序
化学抛光操作步骤
1:试样准备:试样经精磨光后清洗。
2:配置化学抛光溶液。化学抛光溶液应在烧杯中调配,根据试样材料选择化学抛光液配方,配溶液时应用蒸馏水,药品用化学纯试剂。某些不易溶于水的药品需要加热 溶液才能溶解。和腐蚀性很强,调配时需注意安全。化学抛光溶液经使用之后,溶液内金属离子增多,抛光作用减弱,如果发现作用缓慢,气泡减 少,应更换新药液。
3:试样用竹夹或者木夹夹住浸入抛光液中,一边搅动并适时取出观察至达到抛光要求后取出。
4:化学抛光结束之后,试样应立即清洗、吹干。
阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平,去除较粗糙的表面不平度,获得平均为数微米到数十微米的光洁度;第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化,把第二阶段称为微观抛光或光泽化。
首一阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平,去除较粗糙的表面不平度,获得平均为数微米到数十微米的光洁度;第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化,把第二阶段称为微观抛光或光泽化。化学抛光的优点是化学抛光设备简单,不需要什么特殊设备,只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。如果用细薄磨料片切割的试样,切割后不需要砂纸磨光,即可直接抛光。有些非导体材料也可以用化学抛光,非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。化学抛光也可以处理形状比较复杂的零件。
在电镀工业中,电镀工件在电镀之定要进行一系列的处理,其原因是为了得到更好的镀层。化学抛光在电镀前处理中是至关重要的,电镀前处理不可缺少的是化学抛光。化学抛光厂商电话
用于金属溶解的成分主要是酸,其中用得较多的是硫酸、、盐酸、磷酸、等,而对于铝那样的金属,也可使用。在这些酸中由于高浓度的磷酸和硫酸都有较高的黏度,可形成液体膜扩散层,故这种成分具有两种功能。这也是化学抛光液的组成中主要采用硫酸和磷酸的原因。
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