本发明提供了一种耐高温白色曝光显影油墨及其制备方法与应用，该油墨应用于各种3D曲面玻璃及异型玻璃件的美化装饰领域。该油墨为双组份油墨，A组分包括：树脂，聚酯树脂，填料，钛，助剂，光引发剂，；B组分包括：封闭型固化剂，偶联剂。稀释剂包括：，乙酯，MIBK。按比例加固化剂稀释剂后喷涂，预烤曝光后，用1％碳酸钠溶液喷淋3090秒，未曝光区域即可退去，显出高清晰的图像，无残留。150℃烘烤30分钟，
拉丝面曝光显影报价
本发明提供了一种耐高温白色曝光显影油墨及其制备方法与应用，该油墨应用于各种3D曲面玻璃及异型玻璃件的美化装饰领域。该油墨为双组份油墨，A组分包括：树脂，聚酯树脂，填料，钛，助剂，光引发剂，；B组分包括：封闭型固化剂，偶联剂。稀释剂包括：，乙酯，MIBK。按比例加固化剂稀释剂后喷涂，预烤曝光后，用1％碳酸钠溶液喷淋3090秒，未曝光区域即可退去，显出高清晰的图像，无残留。150℃烘烤30分钟，干后油墨绝缘性、高遮盖，附着力好、不黄变,能解决3D曲面玻璃及异型玻璃传统装饰工艺良率和效率低及成本高的问题。拉丝面曝光显影报价
显影是在曝光后的重要步骤，利用曝光区域在化学性质上与未暴光的区域不同，在特定的化学溶液中选择性的保留曝光区域（负胶）或者未曝光区域（正胶）的过程。从而获得终所需的光刻胶结构。显影液的开放容器也会从周围空气中吸收二氧化碳，而且其吸收与容器的表面和体积比相关：如果使用烧杯，应该至少每天更换里面的显影液，而较大的容器可以维持数天或数周更换显影液。拉丝面曝光显影报价
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。光刻工艺是半导体制造中为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。拉丝面曝光显影报价
在平面玻璃产品上进行感光油墨曝光显影的工艺明显不能适用在3D曲面镜片上，由于曲面镜片的外形为两边弯曲或四边弯曲，曲面上难以印刷遮敝图案，造成曝光显影效果不明显或出现偏差。感光油墨曝光显影工艺在3D曲面不适用的问题，提供一种3D曲面玻璃曝光显影定位夹具，解决曲面镜片的曲面难以遮蔽图案的缺陷，提高3D曲面镜片的感光油墨印刷质量。拉丝面曝光显影报价
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