曝光显影作为玻璃外观修饰的重要工艺，该后盖3D玻璃8曲面，弧面曲率大，具有精度高，量产性好，良率高等特点，采用曝光显影技术，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。
1:为压缩整机厚度，后盖弧度大可增加架构空间，另未来5G的发展，器件增加，空间需加大;
综上可推出3D玻璃曝光显影技术是PET贴膜工艺的一种补充，目前应用范围局限于机型，后续技术的突破另当别论。
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显影是
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曝光显影作为玻璃外观修饰的重要工艺，该后盖3D玻璃8曲面，弧面曲率大，具有精度高，量产性好，良率高等特点，采用曝光显影技术，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。
1:为压缩整机厚度，后盖弧度大可增加架构空间，另未来5G的发展，器件增加，空间需加大;
综上可推出3D玻璃曝光显影技术是PET贴膜工艺的一种补充，目前应用范围局限于机型，后续技术的突破另当别论。
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显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。正胶受显影液的影响相对比较小。对于负胶来说非曝光区的负胶在显影液中首先形成凝胶体，然后再分解，这就使得整个负胶层都被显影液浸透。曝光区与非曝光区的光刻胶溶解速度反差越大，显影后得到的图形对比度越高。手机壳LOGO曝光显影厂商
曝光显影工艺-曝光时间的控制影响因素曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。显影 曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。
s1：uv灯固化：将s4中所述的遮挡后的玻璃片放在uv灯下，固化5-8s；
s2：清洗：对不需要喷墨的部位进行清洗，干燥，制得玻璃基板；
s3：检验：对s6中所述的玻璃基板进行质量检验，然后对玻璃基板进行曝光与显影；
s4：区域遮挡：将玻璃片上不需要的区域用夹具夹好、遮挡起来。
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曝光显影-荫罩制造过程中什么因素会影响显影充分？曝光工序的曝光量和紫外线强度的大小,以及涂复工序每卷之间的差异.胶片在显影中随着温度的,让影像显现的一个过程。显影包括正显影和反转显影。正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。上述就是今天所讲解的内容，希望能够对您有所帮助，如果您想要了解更多相关信息的话，欢迎在线咨询客服，或是拨打本公司服务热线（网站右上角）进行咨询，我们必将竭诚为您提供的服务！手机壳LOGO曝光显影厂商
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