丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个方面。现在各式各样的铭牌已被广泛应用于工业和家用电4器产品上，显影：曝光后，将菲膜放在平板上，用温水浸润网膜1-2分钟，用水喷头喷淋，用水溶去非感光部分(图形部分)晒版、显影后的菲膜，直到图形清晰为止。曝光：把膜与底版在晒版机内压紧，用碳精灯或氙灯进行曝光。网框与光源的距离为50-60厘米，曝光时间2-6分钟。喷砂曝光显影工厂
曝光显影不良是什么
喷砂曝光显影工厂
丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个方面。现在各式各样的铭牌已被广泛应用于工业和家用电4器产品上，显影：曝光后，将菲膜放在平板上，用温水浸润网膜1-2分钟，用水喷头喷淋，用水溶去非感光部分(图形部分)晒版、显影后的菲膜，直到图形清晰为止。曝光：把膜与底版在晒版机内压紧，用碳精灯或氙灯进行曝光。网框与光源的距离为50-60厘米，曝光时间2-6分钟。喷砂曝光显影工厂
曝光显影不良是什么原因？干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。容易造成印制电路板的报废，是生产中特别要注意的要点。图形电镀过程中，引起的渗镀的原因分析如下： 1、曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直，保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。喷砂曝光显影工厂
曝光显影工艺-曝光时间的控制影响因素曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。曝光不足，抗蚀膜聚合不够，显影时胶膜溶胀、变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶；曝光过度，将产生显影困难，胶膜发脆，余胶等问题。曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺，喷砂曝光显影工厂
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