反应溅射在溅射气体中加入少量的反应气体反应溅射在溅射气体中加入少量的反应气体如氮气，氧气，烷类等，使反应气体与靶材原子一起在衬底上沉积，对一些不易找到块材制成靶材的材料，或溅射过程中薄膜成分容易偏离靶材原成分的，都可利用此方法。反应气体：O2，N2，NH3，CH4，H2S等镀膜操作将制好的样品台放在样品托内，置于离子溅射仪中，盖好顶盖，拧紧螺丝，打开电源抽真空。待真空稳定后
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反应溅射在溅射气体中加入少量的反应气体
反应溅射
在溅射气体中加入少量的反应气体如氮气，氧气，烷类等，使反应气体与靶材原子一起在衬底上沉积，对一些不易找到块材制成靶材的材料，或溅射过程中薄膜成分容易偏离靶材原成分的，都可利用此方法。
反应气体：O2，N2，NH3，CH4，H2S等
镀膜操作
将制好的样品台放在样品托内，置于离子溅射仪中，盖好顶盖，拧紧螺丝，打开电源抽真空。待真空稳定后，约为5 X10-1mmHg，按下"启动"按钮，通过调节针阀将电流调至6~8mA，开始镀金，镀金一分钟后自动停止，关闭电源，打开顶盖螺丝，放气，取出样品即可。
硅酸盐、高分子、陶瓷和生物等非金属材料的断口
对于硅酸盐、高分子、陶瓷和生物等非金属材料的断口，由于其表面凹凸起伏比较严重，在溅射金属化膜层时，采用旋转镀膜台进行镀膜，否则要采用人为的左、右分别倾斜摆放，至少蒸镀两次，来增加样品表面的导电性、导热性，以及减小凹凸和空隙带来的自掩蔽和不连续影响。
对于抛光平整的样品做一般的形貌观察时，一般只需镀5 nm左右的金属导电膜，而对于表面较粗糙的样品，其膜层厚度一般> 10 nm。金和铂的导电膜具有良好的导电性，而且它们的二次电子发射率高，在空气中不容易氧化，膜厚易控制。镀金可以拍摄到质量好的照片，但如果需要拍摄5万倍以上的照片时，镀铬、铂或钨，它们的颗粒都比黄金颗粒更细微，可以拍摄到细节更丰富、图像更细腻的照片。
台式扫描电镜的一个突出优点
其实制样的关键就是让样品导电，因此对导电样品，不需要再做特殊处理，特别是对那些能导电的块状样品，在样品没有油污、水分等的情况下，一般可直接放入样品仓中观察和分析样品表面形貌及相关的物理和化学特征，这是台式扫描电镜的一个突出优点。对非导电样品，只要在样品上喷涂一层导电物质（通常为金或碳）即可进行观察，这比起光学显微镜和透射电镜制样要简单得多。
若将样品置于靶材下方，则被溅射的金属原子团就会降落到样品表面，形成一层金属膜，用该方法给样品表面镀膜，称为离子溅射镀膜法。
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