当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜（CVD），一种是物理气相沉积，也就是真空镀膜（PVD）。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度很高，一
pvd真空镀膜技术
当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜（CVD），一种是物理气相沉积，也就是真空镀膜（PVD）。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在 1000℃左右，但很多基体材料是无法经受如此高温，性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 TiN，基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。而 PVD 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或有污染的物质，镀出来的膜层硬度更高，性和耐腐蚀性好，性能更稳定，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。
因此，从行业的技术发展趋势来看，等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。
抛光
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使PVD涂层产品表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对PVD涂层产品表面进行的修饰加工。抛光处理以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。
脱气
脱气是将已经超声清洗的待镀产品在真空环境下通过加热、保温、冷却的方式使待镀产品盲孔、缝隙、焊接处，以及产品表面等部位没有被超声清洗干净的杂质、油污和易挥发的材料在高温、真空条件下挥发出来，保证产品在镀膜时不会被杂质气体氧化、导致涂掉膜甚至污染炉腔的一种深层次的清洁方式。
PVD 镀膜工艺起源于国外，在行业发展初期，镀膜设备和镀膜材料的配套以国外厂商为主。国外 PVD 镀膜材料厂商的镀膜材料经过与下游客户的镀膜设备、镀膜工艺的长期磨合，各项性能指标与客户的匹配性已较好，具有较强的先发优势，因此，长期以来 PVD 镀膜材料研制和生产主要集中于美国、日本和德国少数公司，产业集中度较高。
高纯溅射靶材属于典型的技术密集型产业，研发生产设备性强。在一定程度上，半导体工业的区域集聚性造就了高纯溅射靶材生产企业的高度聚集。自诞生之日起，以美国、日本为代表的高纯溅射靶材生产企业便对技术执行严格的保密措施，导致溅射靶材行业在范围内呈现明显的区域集聚特征，生产企业主要集中在美国和日本。
工艺分为阳极电泳和阴极电泳。若涂料粒子带负电，工件为阳极，涂料粒子在电场力作用下在工件沉积成膜称为阳极电泳；反之，若涂料粒子带正电，工件为阴极，涂料粒子在工件上沉积成膜称为阴极电泳。
阳极电泳一般工艺流程为：工件前处理（除油→热水洗→除锈→冷水洗→磷化→热水洗→钝化）→阳极电泳→工件后处理（清水洗→烘干）。
1、除油。溶液一般为热碱性化学除油液，温度为60℃（蒸汽加热），时间为20min左右。
2、热水洗。温度60℃（蒸汽加热），时间2min。
3、除锈。用H2SO4或HCl ，例如用盐酸除锈液，HCl总酸度≥43点；游离酸度>41点；加清洗剂1.5%；室温下洗10～20min。
4、冷水洗。流动中冷水洗1min。
5、磷化。用中温磷化（60℃时磷化10min），磷化液可用市售成品。
上述工序亦可用喷砂→水洗代替。
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