曝光了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被曝光的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行曝光后烘烤， 通过曝光后烘烤，消除曝光时的驻波效应，改善形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；保温杯曝光显影加工厂
显影是利用气体在高频作用下电离产生等离子体，等
保温杯曝光显影加工厂
曝光了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被曝光的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行曝光后烘烤， 通过曝光后烘烤，消除曝光时的驻波效应，改善形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；保温杯曝光显影加工厂
显影是利用气体在高频作用下电离产生等离子体，等离子体轰击或腐蚀晶圆片表面，以达到去除欲去除的材料的目的。干法显影根据工艺的不同有不同的要求，采用的腐蚀气体和腐蚀方法也不同。等离子体与固体表面的反应包括纯化学作用的等离子体腐蚀、纯物理作用的等离子体腐蚀和同时具有化学、物理作用的等离子体腐蚀。显影工艺已基本被旋覆浸没显影工艺代替。保温杯曝光显影加工厂
曝光显影logo印刷方式及过程
第二种：烫印。也叫压印，指的是礼品表面烫上色箔等材料的文字和图案，或者用热压的方式压印出各种图案或者花纹的方式。烫印一般用于纸张、织品以及皮质等材质的礼品包装上。有无色烫印、单色烫印、混合式烫印和套烫等。
烫印的制作过程是：原稿→底版→制版→修版→烫印→干燥→检验→成品
第三种：氧化。氧化工艺纸针对镁铝合金等金属类礼品表面的印制工艺。它使用作为介质，采用放电在产品的表面生成类似于陶瓷层的薄膜图案或者文字。在金属表面上的氧化效果比丝印会更美观。
氧化的制作过程：上架→表面预处理→低温抛光→氧化→清洗→风干→检验→成品
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