真空镀膜加工时为什么会出现产品掉膜的现象呢？今天英利悦电子的小编就累为您解释下，真空镀膜掉膜的原因。
真空电镀加工时产生掉膜的原因很多也很复杂。处理起来很棘手，可以考虑从以下几个方面排除：
1、表面清洁度
产品表面洁净度不够，可以考虑离子源清洗时气放大、时间长点。
2、清洗过程中的问题
镀前清洗不到位，或更换了清洗液。
3、工艺的
汽车轮毂镀膜
真空镀膜加工时为什么会出现产品掉膜的现象呢？今天英利悦电子的小编就累为您解释下，真空镀膜掉膜的原因。
真空电镀加工时产生掉膜的原因很多也很复杂。处理起来很棘手，可以考虑从以下几个方面排除：
1、表面清洁度
产品表面洁净度不够，可以考虑离子源清洗时气放大、时间长点。
2、清洗过程中的问题
镀前清洗不到位，或更换了清洗液。
3、工艺的问题
工艺参数是否有变动，在镀膜时间和电流上做适当调整。
4、靶材的问题
钛靶是否，检查和更换。
5、真空腔是否漏气
进行一次捡漏。
6、产品表面氧化
氧化的原因很多，可以自行判断处理。
PVD镀膜
PVD是英文Physical Vapor Deition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
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