用于改善腐蚀性质的镁涂层的喷射蒸发技术喷射蒸发技术是一种PVD工艺，尤其适应于蒸发低熔点金属如锌或镁等，同时具有很高的沉积率(达到约10UM/S)。在试验型生产线上实现了设备原理如图8所示。坩埚由高纯石墨组成，除了利用一个在顶盖上的小喷嘴与分隔的基底室相连外，其余是全部密封的。除了坩埚外，石墨室也能够被加热，并提供约95%的蒸汽利用率。碳纤维化合物的加热器覆盖着坩
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用于改善腐蚀性质的镁涂层的喷射蒸发技术喷射蒸发技术是一种PVD工艺，尤其适应于蒸发低熔点金属如锌或镁等，同时具有很高的沉积率(达到约10UM/S)。在试验型生产线上实现了设备原理如图8所示。坩埚由高纯石墨组成，除了利用一个在顶盖上的小喷嘴与分隔的基底室相连外，其余是全部密封的。除了坩埚外，石墨室也能够被加热，并提供约95%的蒸汽利用率。碳纤维化合物的加热器覆盖着坩埚和基底室，并且可以分别单独控制以确保温度曲线合乎理想。坩埚容量是按用于4吨卷材计算的。考虑到该试验型生产线的基本研究使用，因此没有安装连续蒸发材料进给装置。加热系统是完全由温度控制和稳定的。从而在加热以后的整个工艺时间内得到恒定的镀膜条件。由于经过优化的喷嘴几何结构设计，使得整个的带截面上的膜厚均匀小于等于(正负)10%。镁的动态沉积率与坩埚温度的函数关系已经在几次实验运行中测量得到。(图
反转磁控溅射刻蚀在一般的磁控放电设备中，接地钢带作为阴极(图6。在带材将要镀膜的一面布置一个空心阳极，在基底背面布置一个磁场系统。这种设备在带材表面产生强度约为25mT的磁场。磁控放电直接在金属化基底表面点火。利用离子冲击获得的刻蚀率可以和从磁控源获得的溅射率相比。为了确保稳定的运行，和用于磁控技术中相似的中频电源用于溅射刻蚀工作站。电流密度可以达到约10mA/cm^2。在钢带处理的特殊情况下，需要考虑磁场为对带材运行的影响和钢带附近的磁场的屏蔽。稳定的钢带通过量利用辊子对带的引导来获得。通过利用由稀土磁体组成的磁场系统，可以在厚度为0.9的钢带表面保持稳定的磁控放电。可以观察到对钢带的刻蚀率达到15～20nm/s。
镀膜技能在光学仪器中的运用大家了解的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及平时生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技能，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。镀膜技能在平板显现器中的运用一切各类平板显现器都要用到各品种型的薄膜，并且简直一切类型的平板显现器材都需求运用ITO膜，以满意通明电器的请求。能够毫不夸张的说：没有薄膜技能就没有平板显现器材。
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