佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
真空镀膜之磁控溅射镀膜 :
磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞,若电子具有足够的能量时, 则电离出离子和另一个电子(二次电子)。当其高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够
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佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
真空镀膜之磁控溅射镀膜 :
磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞,若电子具有足够的能量时, 则电离出离子和另一个电子(二次电子)。当其高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特别牢。电子飞向基片,离子在电场作用下加速飞向阴极 (溅射靶) 并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜, 二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。
利用电阻加热器加热蒸发的优点:镀膜机构造简单,造价便宜、使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜,尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。磁控溅射目前是一种应用十分广泛的薄膜沉积技术溅射技术上的不断发展和对新功能薄膜的探索研究,使磁控溅射应用延伸到许多生产和科研领域。电阻加热方式的缺点是:加热所能达到的z高温度有限,加热器的寿命也较短。近年来,为了提高加热器的寿命,国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。
镀膜原理
阴极真空磁控溅射的特点:膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。利用红外线光谱吸收分析法,可以了解各种镀膜原料的内部化学成分,这是区别真假无机质镀膜产品的重要科学依据。溅射镀膜利用2个原理:辉光放电、连续撞击。溅射过程是建立在气体放电基础上的,放电从低压下开始的,气体离子与靶材相互作用,离子不断的撞击靶表面,靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片(玻璃)上沉积下来,凝结成一层薄膜。
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