物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等;大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发,而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子;离子镀可以分为蒸发式或者溅射式,蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等,溅射式由进入辉光放电
加工工程车辆反光杯
物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等;大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发,而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子;离子镀可以分为蒸发式或者溅射式,蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等,溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供,反应物沉积在基片上。
佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3。
镀膜原理
阴极真空磁控溅射的特点:膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。溅射镀膜利用2个原理:辉光放电、连续撞击。②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度极为重要。溅射过程是建立在气体放电基础上的,放电从低压下开始的,气体离子与靶材相互作用,离子不断的撞击靶表面,靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片(玻璃)上沉积下来,凝结成一层薄膜。
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