抛光机操作的关键是要设法得到*大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响*终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用*细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。
解决这个矛盾的*好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具
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抛光机操作的关键是要设法得到*大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响*终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用*细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。
解决这个矛盾的*好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有*大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到*小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝i对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。
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抛光机处理物件物理特征，可简朴分为：平面自动抛光机，球面自动抛光机，曲面自动抛光机，钢带自动抛光机，仿形自动抛光机，转盘式自动抛光机，数控自动抛光机、圆盘自动抛光机、塑料自动抛光机，金属自动抛光机、亚克力自动抛光机等等有通用机型和专i用机型的区别。
抛光机常用的抛光方式
电解抛光方式
电解抛光的基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为一下两步：
（ 1 ）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。
（ 2 ）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。
磁力研磨抛光方式
磁研磨抛光机是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率i高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到 Ra0.1 μ m 。
在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何准确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。
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