腐蚀机，主要用于电路板精密线路蚀刻；也可用于硬板、软板、软硬结合板、SMT模板、微波混合电路、壳体的蚀刻加工。 电路板湿处理设备，含分药液加工单元和水洗两个单元，中间和尾端有风干装置。用向移动的工件喷射药液的方式，对工件进行显影、蚀刻、去膜、水洗加工，是由液体喷射系统和工件移动运动系统组成的。 所用液体为蚀刻剂时，蚀刻剂与电路板上的抗蚀剂不发生作用，只与未被抗蚀剂保
钢板丝印机金属上刻字
腐蚀机，主要用于电路板精密线路蚀刻；也可用于硬板、软板、软硬结合板、SMT模板、微波混合电路、壳体的蚀刻加工。 电路板湿处理设备，含分药液加工单元和水洗两个单元，中间和尾端有风干装置。用向移动的工件喷射药液的方式，对工件进行显影、蚀刻、去膜、水洗加工，是由液体喷射系统和工件移动运动系统组成的。 所用液体为蚀刻剂时，蚀刻剂与电路板上的抗蚀剂不发生作用，只与未被抗蚀剂保护的在外的铜箔反应，使铜元素较终以化合物的形式溶解到蚀刻剂中，被从电路板基材上去除，从而实现对电路板选择性的蚀刻加工。
刻蚀机目前国际上主要的供应商为应用材料、LamResearch等。方面技术有慢慢追上的趋势，即将登录科创板的中微半导体，其自主研发的5nm等离子体刻蚀机经台积电(2330-TW)验证，将用于首条5nm制程生产线。而北方华创则是在14nm技术有所突破。市场预估今明两年刻蚀机需求分别达15亿美元与20亿美元。 抛光：可以使晶圆表面达到性的平坦化，以利后续薄膜沉积工序。美国应用材料、Rtec等均为国际上主要供应商，则有中电科装备、盛美半导体等。但陆厂的产品才刚打入8寸晶圆厂中，12寸的相关设备还在研发，明显与国际大厂有实力上的差距。市场预计今明两年抛光机需求将达3.77亿美元与5.11亿美元。
一般的工件在腐蚀机腐蚀前要做的丝印工序：油墨调配—定位—丝印—检查—干燥—转蚀刻工序。 主要工序要求： 1、油墨的调配 油墨调配在丝印工作中是一个很重要的工作，如果油墨没有调好，在丝印时容易产生气泡，白点等质量缺陷。油墨调好后用200目左右的丝网过滤，并放置过夜使油墨中的气泡逸出。 2、定位 是丝印台、丝网版和工件三者之间的物理组合。丝印台有自动和手动之分。手动丝印台为常用。定位是指将丝网版上的图文在丝印台上和工件上设计规定的位置重合。 3、丝印 丝印需要用刮板，常用的是聚酯刮板，刮板长度应比丝印图文距离每边长约30mm~50mm。丝印时用力要均匀，刮板在丝网版上要保持匀速运动，不可时快时慢。每完成一个丝印过程要回墨，将图文用油墨保护起来，防止油墨中的稀释剂挥发过快而产生堵网。
有不少朋友向我们小编反映到，自己在使用真空蚀刻机制作网版的过程中，总是在图文部分出现显影不透的现象。那作为一个的真空蚀刻机厂家，小编自然是总结了以下知识，希望能够帮助到大家。
一、是在恒温箱中烘干网版的时间太长或烘干的温度太高，两者都可使涂布感光胶的网版在没有曝光之前就产生“热敏化”，如果再曝光就产生过量曝光，因此，图像难以显透了。 二、在涂布感光胶时，由于涂布的次数较多，涂布时又不注意避光操作造成多次曝光，再曝光时就难以显透图像。 三、晒版光源强度太大，晒版时间太长造成曝光过度，造成显影困难。有时图像反差太小，曝光时就会产生曝光过度，造成显影困难。
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