曝光显影光刻工艺是一种用来去掉晶圆表面层上所规定的特定区域的基本操作
分辨率-resolution 特征图形尺寸-feature size 图像尺寸-image size 定位图形-Alignment or Registration 聚合-polymerization 抗刻蚀的-etch resistant or Resist or Photoresist 亮场掩膜版-clear fie
圆弧面曝光显影加工
曝光显影光刻工艺是一种用来去掉晶圆表面层上所规定的特定区域的基本操作
分辨率-resolution 特征图形尺寸-feature size 图像尺寸-image size 定位图形-Alignment or Registration 聚合-polymerization 抗刻蚀的-etch resistant or Resist or Photoresist 亮场掩膜版-clear field mask 光溶解-photosolubilization；
负胶+亮场或正胶+暗场形成空穴； 负胶+暗场或正胶+亮场形成凸起圆弧面曝光显影加工
光刻工艺是半导体集成电路制造工艺中关键的步骤。在进行离子注入或刻蚀之前，需要通过光刻工艺形成光刻胶团，以预先定义出待刻蚀或离子注入的区域。将所述半导体晶片传送至曝光设备，通过一系列对准动作后，对所述半导体晶片表面的光刻胶层进行曝光，掩膜版上预定好的图案通过曝光可以转移到所述光刻胶层上；显影工艺通过溶解被曝光的光刻胶区域，形成了光刻胶图案。 但是，被曝光区域的光刻胶会由于溶解不充分而产生光刻胶残留缺陷，圆弧面曝光显影加工
在平面玻璃产品上进行感光油墨曝光显影的工艺明显不能适用在3D曲面镜片上，由于曲面镜片的外形为两边弯曲或四边弯曲，曲面上难以印刷遮敝图案，造成曝光显影效果不明显或出现偏差。感光油墨曝光显影工艺在3D曲面不适用的问题，提供一种3D曲面玻璃曝光显影定位夹具，解决曲面镜片的曲面难以遮蔽图案的缺陷，提高3D曲面镜片的感光油墨印刷质量。圆弧面曝光显影加工
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