曝光了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被曝光的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行曝光后烘烤， 通过曝光后烘烤，消除曝光时的驻波效应，改善形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；保温杯曝光显影工艺
显影分为正胶显影和负胶显影。正胶显影是将感光部分
保温杯曝光显影工艺
曝光了光刻胶中的光敏成分，对于正性光刻胶而言，被曝光的光刻胶区域发生了光化学反应，从而可溶于显影液中；对所述半导体晶片上的光刻胶层进行曝光后烘烤， 通过曝光后烘烤，消除曝光时的驻波效应，改善形成的光刻胶图案的侧壁轮廓；对所述光刻胶层进行显影，光刻胶层被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解，然后用去离子水进行冲洗将溶解的光刻胶去除；保温杯曝光显影工艺
显影分为正胶显影和负胶显影。正胶显影是将感光部分的光刻胶溶出,留下未感光部分的胶层;负胶显影是将未感光部分的光刻胶溶除,留下感光部分的胶膜。显影液喷洒到晶片上进行显影后,经过漂洗等工艺,很难再进行回收,这样势必消耗大量的显影液,造成浪费。针对这种情况,本文提出了一种间歇悬浮式厚胶显影工艺,很好的解决了上述问题。保温杯曝光显影工艺
曝光：先将线路菲林跟压好干膜的电路板对好位，然后放在曝光机上，进行曝光，干膜在曝光机灯管的能量下，把线路菲林没有线路的地方（有线路的地方是黑色的，没有线路的地方是透明的）进行充分曝光。
显影：用显影机里的显影液把没有被曝光的部分给显影掉，显影液对被曝光的部分是不起反应的。所以终做出来的图片是线路部分出了黄色铜，而没有线路的部分则还是蓝色（被曝光过的干膜）
在商业印刷中，任何印刷品上都是有logo的。那么logo在印刷的时候有哪些方式呢曝光显影logo印刷方式及过程
第四种：移印。移印指的是热转移印刷。礼品logo的转移印花主要应用在聚酯纤维品上，但随着转移印刷术的提高。同样可以用于尼龙，腈，棉麻等。移印又分为湿印法、干印法、蒸汽印法等多种形式。移印的特点是logo图案逼真、层次清晰、立体感较强。主要用于礼品的图案印制。
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