镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：
金属过渡层：过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力，提高结合力，但是金属过渡层太厚容易引起基体软化，结合力反而会变差。
本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率，漏率越大，进入炉内的杂气就越多，不管真空度多高，这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面
加工注塑工程车辆反光杯
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：
金属过渡层：过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力，提高结合力，但是金属过渡层太厚容易引起基体软化，结合力反而会变差。
本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率，漏率越大，进入炉内的杂气就越多，不管真空度多高，这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度，会破坏膜层的结合力和膜层颜色的纯度。
佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
随着塑料装饰技术发展，一种塑料制品金属化装饰技术随之产生，它是利用塑料基材涂装底漆后，经真空电镀或溅涂，涂装一层金属薄膜层，再涂覆面漆而成。经过涂装的塑料表面，完全闪烁着金属光泽，显出和富丽堂皇的金属，根本看不出是塑料制品。塑料的金属化装饰不仅可以节约大量宝贵的金属材料，也大大减轻了制量，近年来在化妆品包装瓶和包装盒、汽车车灯、酒瓶包装瓶盖、手机塑料按键、钟表外壳等制造中获得了广泛的认可和应用。电子飞向基片，离子在电场作用下加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
磁控溅射：
原理：磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的Zn0:A1薄膜制备方法，通常分为直流溅射（DC）和射频溅射（IC）两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。
优点：以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐，磁控溅射法可获得高度c轴取向，表面平整度高，可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。
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