表面处理加工
高真空方法 ：
真空镀vacuum plating 真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。
表面涂装处理
表面处理加工
高真空方法 ：
真空镀vacuum plating 真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。
(1)真空蒸发镀 在高真空容器中，将金属材料加热蒸发，并镀着在制件表面上，形成与基体牢固结合的金属或非金属覆盖层的过程称为真空蒸发镀，简称真空镀或蒸发镀，如真空镀铝，真空镀镀金等。
(2)溅射镀 在高真空容器中，在低气压下使离子在强电场作用下轰击膜料，使其表面原子逸出并沉积在制件表面上形成薄膜的过程称为溅射镀，如溅射硅、溅射银等。
(3)离子镀 在高真空容器中，在低气压下利用蒸发源蒸出的粒子，经过辉光放电区部分电离，通过扩散和电场作用，沉积于制件表面形成与基本牢固结合镀覆层的过程称为离子镀，如镀氮化钛等。
(4)化学气相镀 在低压下，利用气态物质在固态表面上进行化学反应生成与基体结合良好的固体沉积层的过程称为化学气相镀（有时也有常压下进行）。如气相沉积氧化硅、氮化硅等。
(5)离子注入 在高压电下将不同离子注入工件表面以改变表面性质的过程称为离子注入，如注硼等。
在静电喷粉中，将粉末放入流化桶中，调节流化空气压力，使粉末达到沸腾状态。喷涂时，喷应距工件150-200mm，喷涂时喷应垂直于工件匀速移动。普通粉末和金属粉末的流化空气压力应根据粉末的沸腾条件确定，压力范围为0.30-0.50MPa。
注意，普通粉末与金属粉末在出粉量、送粉气压、电流、电压等方面存在差异，应根据需要喷涂的工件不同进行设置。
平板工件出粉量为50--90，送粉压力为0.40--0.50MPa，电流为20--50uA，电压为60--90Kv。背喷工件出粉量30-50，送粉压力0.30-0.40MPa，电流8-15uA，电压50-70Kv。
工件越复杂，应降低喷涂电流和电压，电流控制在10--20uA，电压控制在50-70Kv，风量控制在0.30-0.40MPa。金属粉末输出30-60，送粉压力0.30-0.45MPa，电流10-20uA，电压50-60KV。
加热至预定温度，一般为190度(实际炉温)，并在相应时间内保持温度(3.0板以下25-30分钟，3.0板以上35-40分钟)。
喷的装粉率由静电性能和粉末输出状态决定。只有当电场强度和粉末输出达到理想的匹配点时，才能达到理想的静电喷粉加载速率。喷输出的粉末过多会影响粉末输出的均匀性，这是许多大型粉末喷粉末输出不均匀的根本原因。不良粉末状态可能导致涂层厚度不均匀的问题。
近年来静电喷塑涂装技术发展十分迅速，它具有不污染环境、粉末可以回收、不含溶剂、使用方便、可以实现自动化生产等优势，但是静电喷塑中也会出现一下缺陷，比如在喷塑时涂层出现吐粉。这主要原因有粉末受潮结块导致流化效果变差，流化板被粉末堵塞，粉泵、静电针、喷嘴、粉管等配件上有粉垢或磨损严重，导致出粉量不均匀。要想处理这一问题可以改善粉末的储存环境，做好供粉设备的保养工作！
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