什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，然后通过化学去除多余涂层，从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。手机壳LOGO曝光显影订做
丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，
手机壳LOGO曝光显影订做
什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，然后通过化学去除多余涂层，从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。手机壳LOGO曝光显影订做
丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个方面。现在各式各样的铭牌已被广泛应用于工业和家用电4器产品上，显影：曝光后，将菲膜放在平板上，用温水浸润网膜1-2分钟，用水喷头喷淋，用水溶去非感光部分(图形部分)晒版、显影后的菲膜，直到图形清晰为止。曝光：把膜与底版在晒版机内压紧，用碳精灯或氙灯进行曝光。网框与光源的距离为50-60厘米，曝光时间2-6分钟。手机壳LOGO曝光显影订做
曝光显影不良是什么原因？干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。容易造成印制电路板的报废，是生产中特别要注意的要点。图形电镀过程中，引起的渗镀的原因分析如下： 1、曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直，保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。手机壳LOGO曝光显影订做
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