光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。采用的半导体目前反应效率的是纳米TiO2光催化剂。在光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对，与表面吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反应生成氧化性很活波的氢氧自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-）。能够把各种废臭气体如醛类
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光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。采用的半导体目前反应效率的是纳米TiO2光催化剂。在光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对，与表面吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反应生成氧化性很活波的氢氧自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-）。能够把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、胺类、酚类、氮氧化物、硫化物、及其它VOC类有机物在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无毒无害物质，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以不会产生二次污染。
光催化氧化是指在一定波长光照条件下，半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水，在反应过程中这种半导体材料也就是光催化剂本身不发生变化。
当化学物质通过吸收能量(如热能、光子能量等)，可以使自身的化学性质变得更加活跃甚至被裂解。当吸收的能量大于化学键键能，即可使得化学键断裂，形成游离的带有能量的原子或基团。当波段内的真空紫外线(波长范围内184.9nm-253.7nm)，促使有机废气物质通过吸收该波段的光子，而该波段的光子能量大于绝大多数的化学键键能，使得有机物质得以裂解；再通过裂解产生的臭氧将其氧化成简单、无害、稳定的物质，如H2O和CO2等。
uv光氧催化除臭设备是利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有的清除效果。uv光氧催化除臭设备是利用高温紫外线灯管分解恶臭气体，是工业除臭的必选有机废气处理设备，污水场、垃圾厂工况生产的恶臭气体导致大气环境受到的污染很严重，为此有关部门大力鼓励有关厂家生产 紫外光除臭净化塔。
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