真空镀膜的种类：在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空电镀有什么特点：适用范围广泛，可用于许多不同材料的物体，在工件真空镀膜条件下涂一层薄膜，可用于：钢、锌合金材料等。
真空电镀具有以下优点：无环境污染：由于所有涂层数据都是在真空环境中等离子体堆积在工件
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真空镀膜的种类：在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空电镀有什么特点：适用范围广泛，可用于许多不同材料的物体，在工件真空镀膜条件下涂一层薄膜，可用于：钢、锌合金材料等。
真空电镀具有以下优点：无环境污染：由于所有涂层数据都是在真空环境中等离子体堆积在工件表面，无溶液污染，因此对环境的损害适当小。然而，由于真空和等离子体的仪器设备价值精细，积累技术仍掌握在少数技术人员手中，实施不多，其投资和正常生产维护成本昂贵。然而，随着社会的不断进步，真空电镀的优势将越来越明显，在一些职业中取代传统的湿电镀的趋势。
真空电镀具有以下几个优点：1.广泛的积累数据：可积累铝、钛、锆等湿真空电镀不能积累的低电位金属，通过反应气体和合金靶材可积累从合金到陶瓷甚至金刚石的涂层，并可根据需要规划涂层系统。真空电镀与水电镀对比优缺点：水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用。但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。
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