高温、高湿的外界环境使得电池片和接地边框之间形成漏电流，封装材料、背板、玻璃和边框之间形成了漏电流通道。通过使用改变绝缘胶膜乙烯酯(EVA)是实现组件抗PID的方式之一，在使用不同EVA封装胶膜条件下，组件的抗PID性能会存在差异。另外，光伏组件中的玻璃主要为钙钠玻璃，玻璃对光伏组件的PID现象的影响至今尚不明确。
面对着该国的能源政策，晶昶能公司领导的指示，
晶昶能家庭太阳能系统招商加盟政策
高温、高湿的外界环境使得电池片和接地边框之间形成漏电流，封装材料、背板、玻璃和边框之间形成了漏电流通道。通过使用改变绝缘胶膜乙烯酯(EVA)是实现组件抗PID的方式之一，在使用不同EVA封装胶膜条件下，组件的抗PID性能会存在差异。另外，光伏组件中的玻璃主要为钙钠玻璃，玻璃对光伏组件的PID现象的影响至今尚不明确。
面对着该国的能源政策，晶昶能公司领导的指示，看着非洲友人殷殷期盼的眼神，晶昶能公司有信心、也有能力做好这一切。对于非洲友人来说，这一举措不仅给他们带来光明的希望，而且给他们带来了就业的机会和解决生活的经济来源。晶昶能一直在致力于为非洲友人生活带来便利而服务，并对公司的服务标准、产量、售后体系等表示高度认可。
化学法中，西门子法（Siemens process）广为早期生产半导体级多晶硅的业者所采用，此法技术成熟但成本较高。除西门子法外，尚有ASiMi法、流体床反应法与管状沉积法等。ASiMi法是Advanced Silicon Material （ASiMi）公司所研发，系利用硅（silane/ SiH4）为原料的高纯度多晶硅制程技术。2005年ASiMi宣布退出多晶硅市场，大部分股权由挪威REC （Renewable Energy Corp）收购，因此此项技术目前仍由REC在进行生产。
太阳能硅片的清洗很重要，它影响电池的转换效率，如器件的性能中反向电流迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介绍清洗的作用和清洗的原理。要了解清洗的原理，首先必须了解杂质的类型，杂质分为三类：一类是分子型杂质，包括加工中的一些有机物；二类是离子型杂质，包括腐蚀过程中的钠离子、氯离子、氟离子等；三是原子型杂质，如金、铁、铜和铬等一些重金属杂质。目前常用的清洗方法有：化学清洗法、超声清洗法和真空高温处理法。
（作者： 来源：）
