用化学沉镍沉积的镀层，有一些不同于电沉积层的特性。
以次磷酸钠为还原剂时，由于有磷析出，发生磷与镍的共沉积，所以化学沉镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层，镀层中磷的质量分数为1％～l5％，控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔，耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或氨基为还原剂时，化学沉镍层是镍硼合金镀层，硼的含量为1％～7％。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层，含镍量可达到99．5
电镀表面处理
用
化学沉镍沉积的镀层，有一些不同于电沉积层的特性。
以次磷酸钠为还原剂时，由于有磷析出，发生磷与镍的共沉积，所以化学沉镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层，镀层中磷的质量分数为1％～l5％，控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔，耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或氨基为还原剂时，化学沉镍层是镍硼合金镀层，硼的含量为1％～7％。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层，含镍量可达到99．5％以上。
化学沉镍是一种硬而有延展性并具有铁磁性的金属，它能够高度磨光和抗腐蚀。化学沉镍属于亲铁元素。熔点1455℃，沸点2730℃，密度8.90克/厘米3，能导电和导热。
化学沉镍，化学符号Ni，原子序数28，原子量58.69，属周期系Ⅷ族。古代埃及、和巴比伦人都曾用含化学沉镍量很高的陨铁制作器物，古代云南生产的白铜中含化学沉镍量就很高。
化学沉镍能缓慢地溶于稀盐酸、稀硫酸、稀，但在发烟中表面钝化。化学沉镍的氧化态为-1、+1、+2、+3、+4，简单化合物中以+2价稳定，+3价化学沉镍盐为氧化剂。化学沉镍的氧化物有NiO和Ni2O3。氢氧化化学沉镍〔Ni(OH)2〕为强碱，微溶于水，易溶于酸。硫酸化学沉镍(NiSO4)能与碱金属硫酸盐形成矾Ni(SO4)2·6H2O(MI为碱金属离子)。+2价化学沉镍离子能形成配位化合物。在加压下，化学沉镍与能形成四羰基化学沉镍〔Ni(CO)4〕，加热后它又会分解成金属化学沉镍和。
化学沉镍的氧化物
化学沉镍有三种氧化物，即氧化亚镍（NiO）,四氧化三镍（Ni3O4）及三氧化二镍（Ni2O3）。三氧化二镍仅在低温时稳定，加热至400~450℃，即离解为四氧化三镍，进一步提高温度终变成氧化亚镍。
化学沉镍可形成多种盐类，但与钴不同，只生成两价镍盐，因此，不稳定的三氧化二镍常作为较负电金属（如钴、铁）的氧化剂，用于镍电解液净化除钴用。
氧化亚镍的熔点为1650~1660℃，很容易被碳或钴所还原。
化学沉镍的有镍（NiAs）和二三镍（Ni3As2）。前者在自然界中为红镍矿，在中性气氛中可按下式离解：
在氧化性气氛中红镍矿的一部分形成挥发性的As2O3，一部分则形成无挥发性的盐（NiOAs2O3）。因此，为了更完全地脱，在氧化焙烧后还必须再进行还原焙烧，使盐转变为，再进一步氧化焙烧中再使以As2O3形态挥发，即进行交替的氧化还原焙烧以完成脱过程。
化学沉镍类似铁和钴，在50~100℃温度下，可与形成羰基碳（Ni（CO）4）：
当温度提高至180~200℃时，又分解为金属镍。该反应是羰基法提取镍的理论基础。
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