离子溅射镀膜原理及特点离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。特点：对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合
三维重构机构
离子溅射镀膜原理及特点
离子溅射镀膜
原理：
离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。
特点：
对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合物所对应的薄膜材料）；
溅射所获得的薄膜和基片结合较好；
消耗少，每次仅约几毫克；
溅射工艺可重复性好，膜厚可控制，同时可以在基片上获得厚度均匀的薄膜。
硅酸盐、高分子、陶瓷和生物等非金属材料的断口
对于硅酸盐、高分子、陶瓷和生物等非金属材料的断口，由于其表面凹凸起伏比较严重，在溅射金属化膜层时，采用旋转镀膜台进行镀膜，否则要采用人为的左、右分别倾斜摆放，至少蒸镀两次，来增加样品表面的导电性、导热性，以及减小凹凸和空隙带来的自掩蔽和不连续影响。
对于抛光平整的样品做一般的形貌观察时，一般只需镀5 nm左右的金属导电膜，而对于表面较粗糙的样品，其膜层厚度一般> 10 nm。金和铂的导电膜具有良好的导电性，而且它们的二次电子发射率高，在空气中不容易氧化，膜厚易控制。镀金可以拍摄到质量好的照片，但如果需要拍摄5万倍以上的照片时，镀铬、铂或钨，它们的颗粒都比黄金颗粒更细微，可以拍摄到细节更丰富、图像更细腻的照片。
扫描电子显微镜(scanningelectronmicros
扫描电子显微镜（scanning electron microscope，简称扫描电镜/SEM）的基本组成是透射系统、电子系统、电子收集系统和观察记录系统，以及相关的电子系统。现在公认的扫描电镜的概念是由德国的 Knoll在1935年提出来的，1938年Von Ardenne在投射电镜上加了个扫描线圈做出了扫描透射显微镜（SEM）。
由于扫描电镜可以利用多种物理信号对样品进行综合分析，并具有直接观察较大样品、放大范围广、景深大的特点，当陶瓷材料处于不同的外部条件和化学环境时，扫描电子显微镜在其微观结构分析和研究方面也显示出很大的优势。
扫描电子显微镜的地方,都用SEM代替
扫描电子显微镜对我们来说似乎有点陌生，但它存在于我们的生活中。我们需要进一步了解它，才能更好地利用它为人类创造价值。扫描电子显微镜由三部分组成：真空系统、电子束系统和成像系统。下面提到的扫描电子显微镜的地方，都用SEM代替。
成像系统和电子束系统均内置于真空柱中。真空柱的底部是密封室，也就是放置样品的地方。
之所以采用真空，主要基于以下两个原因：
电子束系统中的灯丝在普通大气中会很快氧化失效，所以使用SEM时除了真空外，通常还需要用纯氮气或惰性气体充满整个真空柱。
为了增加电子的平均自由程，使更多的电子用于成像。
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