离子溅射镀膜原理及特点离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。特点：对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合
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离子溅射镀膜原理及特点
离子溅射镀膜
原理：
离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。
特点：
对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合物所对应的薄膜材料）；
溅射所获得的薄膜和基片结合较好；
消耗少，每次仅约几毫克；
溅射工艺可重复性好，膜厚可控制，同时可以在基片上获得厚度均匀的薄膜。
扫描电子显微镜是检测样品表面形貌的大型仪器
扫描电子显微镜是检测样品表面形貌的大型仪器。当具有一定能量的入射电子束轰击样品表面时，电子与元素核和外层电子发生一次或多次弹性和非弹性碰撞。一些电子被样品表面反射，而其余电子则穿透样品逐渐失去动能，后停止运动而被样品吸收。在这个过程中，百分之99以上的入射电子能量转化为样品热能，剩余约百分之1的入射电子能量激发样品的各种信号。这些信号主要包括二次电子、背散射电子、吸收电子、透射电子、俄歇电子、电子电动势、阴极发光、X射线等。扫描电镜设备利用这些信号获取信息来分析样品。
灯丝发射的热电子在2
灯丝发射的热电子在2-30KV的电压下加速，经两个聚光镜和一个物镜聚焦后，形成具有一定能量、强度和强度的入射电子束。光斑直径。在线圈产生的磁场作用下，入射电子束按一定的时间和空间顺序按光栅图案进行扫描。由于入射电子与样品的相互作用，从样品激发的二次电子被收集器收集，收集器可以收集向各个方向发射的二次电子。这些二次电子被加速射到闪烁体上，使二次电子信息转化为光信号，然后通过光管进入光电倍增管，使光信号转化为电信号。这个电信号经过视频放大器放大后输入到显像管的栅极来调制荧光屏的亮度，荧光屏上就会出现与样品对应的相同图像。当入射电子束在样品表面扫描时，二次电子发射量随样品表面的起伏（形貌）而变化。
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