温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳极氧化不同,所需温度范围较宽。一般为10—90度。微弧氧化技术、微弧氧化生产线2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高,可承受高温使用,范围根据基材熔点温度有良好的绝缘性能,绝缘电阻膜阻>。温度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且温度高,会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放,所以液体温度上升较快,微弧氧化
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温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳极氧化不同,所需温度范围较宽。一般为10—90度。微弧氧化技术、微弧氧化生产线2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高,可承受高温使用,范围根据基材熔点温度有良好的绝缘性能,绝缘电阻膜阻>。温度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且温度高,会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放,所以液体温度上升较快,微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源
微弧氧化手电解质溶液及其组分的影响
微弧氧化电解液是获到合格膜层的技术关键。不同的电解液成分及氧化工艺参数,所得膜层的性质也不同。特别对于氧化膜要求很厚的样品可以分几次氧化,而阳极氧化一旦中断就必须重新开始。微弧氧化电解液多采用含有一定金属或非金属氧化物碱性盐溶液(如硅酸盐、磷酸盐、硼酸盐等),其在溶液中的存在形式较好是胶体状态。溶液的pH范围一般在9~13之间。根据膜层性质的需要,可添加一些有机或无机盐类作为辅助添加剂。在相同的微弧电解电压下,电解质浓度越大,成膜速度就越快,溶液温度上升越慢,反之,成膜速度较慢,溶液温度上升较快。微弧氧化生产线、微弧氧化电源
微弧氧化的设备
1. 微弧氧化电源
因电压要求较高(一般在510—700V之间),需专门定制。通常配备硅变压器。电源输出电压:0—750V可调。电源输出大电流:5A、10A、30A、50A、100A等可选。
2.氧化槽
一般采用pp焊接槽即可,pp槽具有坚固,防腐蚀。
3.溶液冷却和搅拌系统
在微弧氧化过程中,会在工件表面产生瞬时高温高压,为了及时能带走产生的热量及平衡稳定氧化槽的温度,必须配备外循环和热交换方式,溶液的循环同时达到搅拌和冷却槽液的目的。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术
微弧氧化技术的应用
微弧氧化膜由于具有抗磨损、耐腐蚀、高介电和隔热等特性,应用在许多领域。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源、铝合金微弧氧化技术、钛合金微弧氧化技术。如,航空、航天、汽车、船舶、机械、石油、化工、、电子等行业。尽管微弧氧化技术已经在这些方面有些应用,并且呈现新的应用前景,但是推广应用的力度还不够,这里包括技术和经济等多方面原因,有待于我们进一步深入研究。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线
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