丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个方面。在铭牌生产过程中，起决定性作用是丝网印版及承印物前处理的工艺技术和印刷要点及丝印油墨的选择。曝光：把膜与底版在晒版机内压紧，用碳精灯或氙灯进行曝光。去膜方法：在曝光、显影过程中，发现版不合格时，马上用温水可把胶膜刷掉重新制作。5%水溶液加温处理网版，可除去胶膜。手机壳LOGO曝光显影工艺
丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个
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丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个方面。在铭牌生产过程中，起决定性作用是丝网印版及承印物前处理的工艺技术和印刷要点及丝印油墨的选择。曝光：把膜与底版在晒版机内压紧，用碳精灯或氙灯进行曝光。去膜方法：在曝光、显影过程中，发现版不合格时，马上用温水可把胶膜刷掉重新制作。5%水溶液加温处理网版，可除去胶膜。手机壳LOGO曝光显影工艺
丝印铭牌间接制五大方法丝印铭术，是丝印技术应用的一个方面。现在各式各样的铭牌已被广泛应用于工业和家用电4器产品上，把曝光显的菲林膜面贴在丝网上，铭牌制作中人膜的背面用橡皮板或其它直板，轻轻刮贴，使膜与网接触牢固，马上放在烘箱内，在温度55±2度的条件下烘烤8-12分钟，干燥后，把网框固定在印版台上进行试印。手机壳LOGO曝光显影工艺
曝光显影不良是什么原因？干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。容易造成印制电路板的报废，是生产中特别要注意的要点。图形电镀过程中，引起的渗镀的原因分析如下： 1、曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直，保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。手机壳LOGO曝光显影工艺
蚀刻曝光和显影是什么意思， 1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路. 蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类，经过不断改良和工艺设备发展， 显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.涉及到曝光显影工艺；蚀刻溶液（蚀刻溶液）：蚀刻系数取决于蚀刻速率的大小，手机壳LOGO曝光显影工艺
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