洁净室系利用HEPA、ULPA过滤空气，其尘埃的收集率达99。97~99。99995%之多，因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外，尚有机器等之发尘源，这些发生的尘埃一旦扩散，即无法保持洁净空间，因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。当洁净室内相对湿度精度要求≤±10%时好不采用。而采用喷干蒸汽和电热（电极）式加湿的方法。在净化工程的施工过程中，有必要随
净化车间工程
洁净室系利用HEPA、ULPA过滤空气，其尘埃的收集率达99。97~99。99995%之多，因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外，尚有机器等之发尘源，这些发生的尘埃一旦扩散，即无法保持洁净空间，因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。当洁净室内相对湿度精度要求≤±10%时好不采用。而采用喷干蒸汽和电热（电极）式加湿的方法。在净化工程的施工过程中，有必要随时清理房间内的灰尘，并清楚地记录天花板和墙壁内部等隐蔽空间。
净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理，均应采用初效、中效、高1效空气过滤器三级过滤。100000级空气净化处理，可采用亚高1效空气过滤器代高1效空气过滤器。净化工程的设计过程中，应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据该工程是新建工程或者是旧厂房改造工程，并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。洁净室系利用HEPA、ULPA过滤空气，其尘埃的收集率达99。97~99。99995%之多，因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外，尚有机器等之发尘源，这些发生的尘埃一旦扩散，即无法保持洁净空间，因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。
光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。乱流洁净室的主要特点是从来流到出流（从送风口到回风口）之间气流的流通截面是变化的，洁净室截面比送风口截面大得多，因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给于特别设计之密闭空间。
净化工程注意事项需记牢：1。需求带入无菌室运用的仪器，器械，平皿等全部物品，均应包扎紧密，并应通过适合的办法灭菌。2。作业人员进入无菌室前，有必要用番笕或消液洗手消，然后在缓冲间替换作业服，鞋，帽子，口罩和手套(或用70%的乙醇再次擦洗双手)，方可进入无菌室进行操作。3。无菌室运用前有必要翻开无菌室的紫外灯辐照灭菌30分钟以上，而且一起翻开超净台进行吹风。操作结束，应及时整理无菌室，再用紫外灯辐照灭菌20分钟。4。供试品在查看前，应坚持外包装完好，不得敞开，以防污染。查看前，用70%的酒精棉球消外外表。5。凡带有活菌的物品，须经消后，才能在水下冲刷，禁止污染下水道。
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