什么是真空镀膜技术？通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？真空镀膜是一种生产薄膜材料的技术。在真空室中，材料的原子与热源分离，撞击待镀物体表面。该技术用于在光盘上制作铝膜，用掩模在印制电路板上制作金属膜。
真空镀膜
1.通过真空镀膜获得的金属膜层非常薄（通常为0
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什么是真空镀膜技术？通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？真空镀膜是一种生产薄膜材料的技术。在真空室中，材料的原子与热源分离，撞击待镀物体表面。该技术用于在光盘上制作铝膜，用掩模在印制电路板上制作金属膜。
真空镀膜
1.通过真空镀膜获得的金属膜层非常薄（通常为0.010.1um），可以严格啤酒表面的形状。
2.工作电压不是很高（200V），操作方便，但设备较昂贵。
3.蒸发锅体积小，电镀件数量少，生产效率低。
4.比较适合于熔点比钨丝低的金属镀层（例如铝，银，铜，金等）。
真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法抉择着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所构成的。开始电镀时，基体材料外表主要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。
PVD镀膜技术是一种环保的表面处理方法，可以真正获得微米级电镀，无污染，可以制作各种单一的金属膜(铝、钛、锆、铬等)、氮化膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)、碳化膜(TiC、TiCN)、氧化膜(TiO等)。
PVD镀膜可镀膜层的颜色是什么
我们现在能做的膜层颜色有IP金色(IPGIN18、IPGIN14)、IP玫瑰金、IP黑色、IP颜色、IP铬颜色、IP咖啡颜色和各种颜色的IP间颜色加工。通过控制电镀过程中的相关参数，可以控制电镀颜色的电镀结束后，可以用相关设备测量颜色值，定量颜色，确定电镀颜色是否满足要求。
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