二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大，如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白，在这发白的颗粒周围感应了正电荷，而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小，使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强，所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面，如金属、陶瓷
三维重构中心
二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大
二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大，如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白，在这发白的颗粒周围感应了正电荷，而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小，使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强，所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面，如金属、陶瓷和塑料等材料的断口，所以在材料学科中扫描电镜得到了广泛应用。
扫描电镜的放大倍数是多少
如果以吸收电子、X射线、阴极荧光、束感生电导或电位等作为调制信号的其他操作方式，由于信号来自整个电子束散射区域，所得扫描像的分辨率都比较低，一般在l000 nm或l0000nm以上不等。扫描电镜的放大倍数可表示为M =Ac/As式中，Ac—荧光屏上图像的边长；As—电子束在样品上的扫描振幅。一般地，Ac 是固定的(通常为100 mm)，则可通过改变As 来改变放大倍数。目前，大多数商品扫描电镜放大倍数为20～20,000倍，介于光学显微镜和透射电镜之间，即扫描电镜弥补了光学显微镜和透射电镜放大倍数的空挡。
扫描电镜带能谱结合了表面成像功能和元素分析
扫描电镜带能谱结合了表面成像功能和元素分析EDS功能，EDS（能谱仪）可以准确的进行样品表面元素的定性和定量分析。台式电镜能谱仪体积小巧，完全嵌入在电镜主机中，采用半导体制冷，无需额外冷却系统。与光学显微镜类似，扫描电镜也通过透镜来控制电子路径。但因为电子无法穿过玻璃，所以扫描电镜要使用电磁透镜。它们由线圈和金属极片构成。当电流通过线圈，就会产生磁场。由于电子对磁场非常敏感，因此只需调节所施加的电流大小就可以控制镜筒内的电子路径。
（作者： 来源：）
