洁净室属于人造的环境，里面含有的粒子远一般的环境，随着集成电路的级数的成长，也增加了对制造环境(洁净室)洁净度要求，在工业上即使使粒子之尺寸想小于0。1微米。也可能阻碍产品的制作或降低其寿命。优于纳米技术的兴起，造成半导体关键尺寸持续缩小，集成电路积集度不断地增加，尘粒更容易使芯片失效或可靠度下降。例如当金属尘粒落到金属导线时，就可能会使金属导线形成短路。所以洁净室为集
洁净室工程
洁净室属于人造的环境，里面含有的粒子远一般的环境，随着集成电路的级数的成长，也增加了对制造环境(洁净室)洁净度要求，在工业上即使使粒子之尺寸想小于0。1微米。也可能阻碍产品的制作或降低其寿命。优于纳米技术的兴起，造成半导体关键尺寸持续缩小，集成电路积集度不断地增加，尘粒更容易使芯片失效或可靠度下降。例如当金属尘粒落到金属导线时，就可能会使金属导线形成短路。所以洁净室为集成电路制造必不能少的因素。
洁净室使用FFU的注意事项利用FFU解决洁净室存在的问题，利用FFU可以节省空间，解决洁净室吊顶顶端维修空间狭小的问题。由于高1级别的洁净室(如百级间)需要百级甚至十级层流罩用以解决工艺需求，洁净室吊顶上部将设立一个个巨大的送风静压箱，静压箱内设立通风机，这些静压箱连同送风管、回风管占据了很大的空间，使得维修空间变的狭小，有时甚至影响消防通道的使用。
洁净室FFU控制方式的选择多档开关控制系统：此系统只包括FFU自带的一个调速开关和一个电源开关。由于控制元件为FFU自带，分布在洁净室吊顶内的各个位置，工作人员必须在现场通过拨挡开关来调节FFU，控制起来极不方便，而且FFU的风速可调范围有限，于几档。采用多档开关控制方式优点是控制简单、成本低，但存在许多缺陷，比如能耗大、不能平滑调速、没有反馈信号、不能实现灵活的组制等。
同时，在悬挂的硅钙板之间留出宽3mm的间隙，用密封剂填埋封闭，使净化工厂达到期望的气密效果。对工厂内部的灯具口、通风口、设备口等孔周边及其各种材料的分界线，根据设计和施工规范的要求，完善相应的密封和防裂措施，保证工厂整体的气密性。净化厂操作完成后，必须立即打扫无菌室，然后用紫外线灯灭菌20分钟。净化厂的应用非常广泛，目前已应用于半导体、光电子、生物工程等多个行业，根据行业精密和清洁的要求，等级差异也很大。
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