东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，是将派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
真空镀膜设备操作规程
① 检查真空镀膜设备的操作控制开关是否在“off”位置。
② 打开总电源开关，真
金属配件纳米镀膜设备
东莞拉奇纳米科技有限公司是一家从事纳米镀膜代工与纳米镀膜设备制造销售的公司，是将派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性：防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。
真空镀膜设备操作规程
① 检查真空镀膜设备的操作控制开关是否在“off”位置。
② 打开总电源开关，真空镀膜设备通电。
③ 拉出低压阀。打开充气阀，当听不到气流声时，启动钟罩阀，钟罩上升。
真空镀膜是一种表面非常薄的透明薄膜。目的是减少光的反射，提高透射率，抵抗紫外线，抑制耀斑和鬼影；不同颜色的真空镀膜也使成像色彩平衡不同。此外，真空镀膜还可以延迟透镜的老化和变色时间。
PVD是英文Physical Vapor Deition(物理气相沉积)的缩写。是指在真空条件下，利用低压大电流电弧放电技术，利用气体放电蒸发靶材，使蒸发的物质和气体电离，利用电场加速度将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。
影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些
靶基距、气压的影响
磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。
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