二次电子检测信号和光电转换效率要高二次电子的检测信号和光电转换效率要高→图像信号的接收和信噪比的问题。试样表面的细节要足够多和细、组分反差要大→试样表面的结构问题。试样的导电性要好、二次电子产额要高→试样的特征和制备问题。加速电压和束流的大小、束斑的对中、工作距离和图像的衬度调节等电镜参数的选择要合理→操作人员的工作经验、综合素质问题。供电电压的波动、地面的振动、周围的磁场
扫描电镜分析机构
二次电子检测信号和光电转换效率要高
二次电子的检测信号和光电转换效率要高→图像信号的接收和信噪比的问题。试样表面的细节要足够多和细、组分反差要大→试样表面的结构问题。试样的导电性要好、二次电子产额要高→试样的特征和制备问题。加速电压和束流的大小、束斑的对中、工作距离和图像的衬度调节等电镜参数的选择要合理→操作人员的工作经验、综合素质问题。供电电压的波动、地面的振动、周围的磁场和噪声等各种干扰都要尽可能小→环境条件的问题。
在实际工作中以上这几个要点很难个个具备都能达到理想状态
在实际工作中以上这几个要点很难个个具备都能达到理想状态，但是作为一个的扫描电镜应用人员来说，应从多方面入手，综合考虑，如选好电镜的安装环境，尽自己的职责维护好设备和制备好试样，这都是操作人员应该做到的事。电镜参数的合理选择和熟练操作，是操作人员经过努力学习、不断积累经验而应能实现的目标。至于扫描电镜的型号和某些参数的优劣，这超出操作人员的能力范围，只要操作人员能发挥出现有电镜大的潜能，一般都能得到比较好的成像效果。当然，如果能有一台高亮度、高分辨的扫描电镜，那将会更理想。
半导体器件(IC)研究中的特殊应用
在半导体器件(IC)研究中的特殊应用：
1)利用电子束感生电流EBIC进行成像，可以用来进行集成电路中pn结的定位和损伤研究
2)利用样品电流成像，结果可显示电路中金属层的开、短路，因此电阻衬度像经常用来检查金属布线层、多晶连线层、金属到硅的测试图形和薄膜电阻的导电形式。
3)利用二次电子电位反差像，反映了样品表面的电位，从它上面可以看出样品表面各处电位的高低及分布情况，特别是对于器件的隐开路或隐短路部位的确定尤为方便。
4、利用背散射电子衍射信号对样品物质进行晶体结构(原子在晶体中的排列方式)，晶体取向分布分析，基于晶体结构的相鉴定。
如何选择高加速电压的缺点
加速电压越高入射电子束的波长越短，也就越容易得到高分辨力的图像，还有抗外部电磁场的干扰能力也会增强，也不易受到试样表层污染斑的影响，所以高的加速电压比较适合拍摄高倍率的图像。
选择高加速电压的缺点，所获得的图像会缺少表面信息和细节，易呈现高反差，特别是会明显变大边缘效应，使得到的图像欠柔和，也会使图像容易呈现生硬的感觉。另外，高的加速电压、大的束斑也容易造成试样的放电和损伤，以及图形的漂移。
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