真空镀膜加工的基本技能要求
5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜资料的利用率，合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热设备，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的规划应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具
塑料真空镀膜
真空镀膜加工的基本技能要求
5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜资料的利用率，合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热设备，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的规划应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电设备，维持作业稳定。
请问什么是PVD
PVD是英文Physical Vapor Deition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
请问PVD镀膜的具体原理是什么
离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
什么是真空镀膜加工
简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。
（作者： 来源：）
