什么是曝光显影工艺？曝光显影工艺就是指利用物质这一特点，由紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射，然后通过化学去除多余涂层，从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。由于 3D 曲面 CG 玻璃需要和中框的结合，但是 3D 曲面 CG 玻璃本身物理加工又存在难以去除的公差，在进行曝光工艺加工时工艺误差区间被压缩，标牌曝光显影工艺
在了解曝光显影在蚀刻加工中的作用前，我们
标牌曝光显影工艺
什么是曝光显影工艺？曝光显影工艺就是指利用物质这一特点，由紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射，然后通过化学去除多余涂层，从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。由于 3D 曲面 CG 玻璃需要和中框的结合，但是 3D 曲面 CG 玻璃本身物理加工又存在难以去除的公差，在进行曝光工艺加工时工艺误差区间被压缩，标牌曝光显影工艺
在了解曝光显影在蚀刻加工中的作用前，我们要先了解一下什么是曝光显影。曝光也叫感光，是将菲林放在已经喷了感光油的产品上面，主要的目的是通过曝光让菲林上的图案在材料上对应成型，感光(曝光)完成后就要进行下一步工作——显影。显曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性，从而产生不良品，而菲林也要定期检查，不能出现折叠现象，否则也会出现不良品。
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.
显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.
标牌曝光显影工艺
曝光显影工艺-曝光时间的控制影响因素曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。显影 曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。
s1：uv灯固化：将s4中所述的遮挡后的玻璃片放在uv灯下，固化5-8s；
s2：清洗：对不需要喷墨的部位进行清洗，干燥，制得玻璃基板；
s3：检验：对s6中所述的玻璃基板进行质量检验，然后对玻璃基板进行曝光与显影；
s4：区域遮挡：将玻璃片上不需要的区域用夹具夹好、遮挡起来。
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曝光显影-荫罩制造过程中什么因素会影响显影充分？在荫罩制造过程中,曝光后的钢带是否显影充分,关系到钢带刻蚀时一致性和稳定性.以及涂复工序每卷之间的差异.胶片在显影中随着温度的,化学反应加快.浓度大,采用曝光与显影的方式来定义组装区,这是为什么使用曝光显影的关系.如需了解更多细节,可参考些电路板制程介绍的书.标牌曝光显影工艺
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